【小王子十月上新】UV激光清洗机355 纳米

更新时间：2024-10-29

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【小王子十月上新】近期我司推出热销产品UV激光清洗机355 纳米

UV激光具有高光子能量，在照射面发生分子键直接解离的光分解加工。该产品的特点之一是利用这种光解加工原理去除污垢。与热处理相比，它可以产生锋利的表面，表面上的污垢加工残留物更少，并且可以最大限度地减少对基材的损坏。特别是使用紫外激光可以有效去除无机材料上的有机物（油污、抗蚀剂等）以及易被紫外光分解的污渍。此外，通过电扫描仪将光会聚到物镜上，形成数微米或更小的微小光斑直径，从而可以进行精确且有限的清洁。通过拆下物镜单元，可以清洁300mm见方的区域。

■配置

・紫外激光振荡器・电镜扫描镜・极精细的物镜单元・冷却冷水机・打标软件・监控软件由于使用标记软件，还可以直接导入日语、条形码输入、CAD、照片等作为标记使用。

■用途

去除金属、半导体、无机材料、有机绝缘膜、UV分解后的材料污渍等有机物（油污、抗蚀剂等）。

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